现有的曝光机对基板的主体部分进行曝光，但是基板的边缘，特别是基板相对的两长边(在光阻涂布的起始端与末端位置)较容易形成光阻残留，从而导致后段部件所需要用到的对位图案被遮住，造成基板报废。为了解决此问题，现在普遍的做法为在主体曝光完成后增加一个边缘曝光的工艺，其主要功用为防止静电的产生及后段框胶贴附的质量，另一个功用就是去除基板四周的不必要的残留。无论采用365~405nm波段LED曝光灯源还是395nm灯曝光灯源，均无法制作出合适的多排版曝光治具供给固定和对位调整，使得只能单片对单片进行曝光显影而已，产能效率低，对应结构换线频率高，换线时间长。
漆膜雕刻法：是手工制版法的一种，较简单。可印制一般不太精致的单S图案和文字。⑴喷制刻版漆膜纸：将描图纸用浆糊粘在平整的木版上，用排笔把橡胶水1份（体积比），q油1份调好，均匀地涂在纸面上，干后喷涂软性清漆3—5次，每次喷涂后，在烘箱中用40度~50度烘干，漆膜厚度喷至5~6毫米为宜，漆膜应光亮、均匀、无气泡、无污点。⑵雕刻图形：把漆膜纸贴在图形上，用刻刀、圆规刀、直尺按图形雕刻，轻轻地剔除漆膜。⑶转贴：雕刻图形之后，便可以往事先做好的丝网框上转贴了。方法是把刻好的漆膜放在网框下面压紧，用棉花沾少许稀料在上面轻轻复擦，至漆膜与丝网粘牢为止。干燥数分钟后，把描图纸揭掉。如果纸未全掉，可用棉花沾水擦净。空白的部分用硝基漆涂一层，将丝网的网眼堵住。晾干后即可印刷。前言宣扬跟着社会经济的开展和人们审美心思的变化，logo规划日益趋向多元化、特性化，新材料、新工艺的使用，以及数字化、网络化的完成，标志规划在更宽广的视觉领域内起到了宣扬和建立品牌的效果。
人道化19世纪末以来，因为工业革命以及包豪斯规划风格的影响，规划倾向于机械化，有大工业年代的严寒感。随着社会的开展和审美的多元化以及对人的重视，人道化成为规划中的重要因素。正如美国闻名的工业规划家、规划史学家、规划教育家普罗斯所言:“人们总以为规划有三维:美学、技能、经济，但是，更重要的是第四维:人道!信息化信息化时代的特征，logo与以往不同，除表明品牌或企业特点外，logo还要求有更丰厚的视觉效果、更生动的造型、更适合消费心思的形象和颜色元素等。”logo也是如此，应根据心思需求和视觉喜好在造型和色彩等方面趋向人道化，其有针对性。