PVD是物理气相沉积的简称,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上真空镀膜。利用物理过程实现物质转移,在工件表面形成具有特殊性能的金属或化合物涂层,其特殊性能包括强度高、耐磨性、散热性、耐腐性、以及绝缘等。涂层的物质源是固态物质,利用气体放电或加热的方式使靶材蒸发或者电离,经过“蒸发或者溅射”后,在电场的作用下,在工件表面生成与基材性能不同的固态物质涂层。
在日常的操作中,有些用户由于其操作不当导致镀膜效果欠佳的问题,在PVD真空镀膜过程中,镀膜机腔体内的压力波动将导致镀膜不均匀以及重复性欠佳。质量流量控制器控制反应气体的同时,采用压力控制器控制腔体内惰性气体的压力,从而提升终等离子气相沉积(PVD)的结果。
采用压力控制器方案,控制往真空腔体内充入的惰性气体的压力以营造一个控制良好的镀膜环境。与反应腔体直接连接的外置真空计测量持续的过程压力,该压力读数通过模拟信号传输到压力控制器并显示。
进入腔体内的参与反应的气体的流量由质量流量控制器控制。因为上述的压力控制器可以测得腔体内的压力、并通过调节非反应类气体的含量实时调节过程压力,从而使腔体内形成利于沉积的镀膜环境。
目前,几乎任何材料都可以通过真空镀膜工艺涂覆到其他材料的表面上,这为真空镀膜技术在各种工业领域中的应用开辟了更加广阔的前景。
用真空镀膜技术代替传统的电镀工艺,不但能节省大量的摸材和降低能耗,而且还会消除湿法镀膜中所产生的环境行染。因此国外在钢铁零件涂镀防瘸层和保护源方面,已采用真空搜膜工艺来代替电镀工艺。在冶金工业中,为钢铁和带钢加镀铝防护层已很普遍;在机械制造业中,真空搜膜工艺用于改变改变某些加工工艺和节约贵重的原材料,如飞机浔轮发动机的叶片已经不用价h格昂贵的妤高温金属制造,而是采用价格低廉易加工材料,成形后再用真空被膜的方法在叶片表面上力镀耐高温,耐南蚀的防护层。
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